АНДРЕЙ ФАТКУЛЛИН,
Опубликовано: 8.12.1998
В исследовательском центре IMEC на кремниевых пластинах получены микроэлектронные структуры размером 90 нм.
В совместном с IMEC проекте участвовала большая группа фирм: Advanced Micro Devices, Micron Technology, National Semiconductor, Philips, Siemens, Texas Instruments и Selete (концерн из Японии, занятый разработкой технологии производства для 300-миллиметровых кремниевых пластин).
В отличие от прежних рекордов, время от времени всплывавших в лабораториях разных фирм, бельгийские технологи добились результатов, пригодных для скорого коммерческого применения.
Возглавляющий проект Люк ван ден Хав (Luc van den Hove) разъяснил суть нового достижения. В ходе работ применялся лазер, излучающий свет с длиной волны 193 нм и не использовались фотошаблоны с фазовым сдвигом, удорожающие процесс. Инженеры IMEC с оптимизмом смотрят и на применение источников света с длиной волны 157 нм, которые позволят перейти к нормам 0,07 мкм.
Продвижение в наноэлектронику не обойдется, по-видимому, без крахов в полупроводниковой промышленности. Ван ден Хав считает, что из пяти прошлых претендентов на стандарт наноэлектронной литографии (ионнo-лучевая, рентгеновская, электронно-лучевая, Scalpel от Lucent, дальняя ультрафиолетовая) через полтора года будут использоваться всего два.
Среди "кандидатов в музейные экспонаты", по мнению бельгийского менеджера, находится рентгеновская фотолитография. Фотошаблоны для "рентгена" стоят от 5 до 50 тысяч долларов за штуку, а риск повредить их при экспонировании, когда между пластиной и шаблоном зазор составляет всего 15 мкм, высок. В СССР же в свое время ее выбрали как самую перспективную (чем дороже - тем лучше) и построили для получения качественного рентгеновского излучения синхротрон в Зеленограде. - А.Ф.